| 发明名称 | 基片载置台用静电吸盘及其所用的电极、以及具备它们的处理系统 | ||
| 摘要 | 一种基片载置台用静电吸盘，在棒状的基体材料的表面上喷射高纯度陶瓷而形成单层的喷镀膜以构成电极，并将多个该电极保持间隙进行配置而成。 | ||
| 申请公布号 | CN1816909A | 申请公布日期 | 2006.08.09 |
| 申请号 | CN200480019365.3 | 申请日期 | 2004.06.25 |
| 申请人 | 株式会社未来视野 | 发明人 | 小林聪树;岩渕胜彦 |
| 分类号 | H01L21/68(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H02N13/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/68(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 曲瑞 |
| 主权项 | 1.一种基片载置台用静电吸盘，其特征在于：将多个电极并列进行配置。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||