| 发明名称 | 利用二次电子的电子投影光刻装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种利用二次电子的电子投影光刻装置。该装置包括：二次电子发射器，它与基板固定器间隔预定距离，在该二次电子发射器的朝向基板固定器的表面上形成已构图的掩模；一次电子发射器，它在二次电子发射器背对基板固定器的方向上与二次电子发射器间隔预定距离，并向二次电子发射器发射一次电子；第二电源，它在基板固定器和二次电子发射器之间施加预定电压；第一电源，它在二次电子发射器和一次电子发射器之间施加预定电压；和磁场发生器，它控制由二次电子发射器发射的二次电子的路径。 | ||
| 申请公布号 | CN1269187C | 申请公布日期 | 2006.08.09 |
| 申请号 | CN200310102435.9 | 申请日期 | 2003.10.20 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 柳寅儆;文昌郁;金东煜 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01J1/00(2006.01);H01J37/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种利用二次电子的电子投影光刻装置，该装置包括：一个二次电子发射器，它与基板固定器间隔预定距离，在该二次电子发射器的朝向基板固定器的表面上形成已构图的掩模；一个一次电子发射器，它在二次电子发射器背对基板固定器的方向上与二次电子发射器间隔预定距离，并向二次电子发射器发射一次电子；一个第二电源，它在基板固定器和二次电子发射器之间施加预定电压；一个第一电源，它在二次电子发射器和一次电子发射器之间施加预定电压；和一个磁场发生器，它控制由二次电子发射器发射的二次电子的路径，其所产生的磁场方向平行于该第一电源和第二电源所产生的电场方向。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||