发明名称 |
薄膜形成装置及光学元件的制造方法 |
摘要 |
用于红外区域实际使用波段的光学元件有一个衬底11和一个由形成在衬底11上的多层组成的光学薄膜。薄膜形成装置包括:测量可见区域特定波段中光谱特性的光学监视器4,测量红外区域特定波段中光谱特性的光学监视器5,和测量实际使用波段光谱特性的实际使用波段光学监视器。根据任一监视器4或5测得的光谱特性确定形成的各个层的膜厚度,并且根据这些膜的厚度调节还没有形成的层的膜厚度设置值。由实际使用波段光学监视器测得的光学薄膜形成过程中以及随后的薄膜形成过程结束时的光谱特性被反映到在下一衬底11上形成下一光学薄膜的过程中。 |
申请公布号 |
CN1268945C |
申请公布日期 |
2006.08.09 |
申请号 |
CN02825543.7 |
申请日期 |
2002.12.17 |
申请人 |
株式会社尼康 |
发明人 |
秋山贵之 |
分类号 |
G02B5/28(2006.01);C23C14/54(2006.01);G01B11/06(2006.01) |
主分类号 |
G02B5/28(2006.01) |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
车文;顾红霞 |
主权项 |
1.一种薄膜形成装置,用于在衬底表面上形成由多层组成的膜,该薄膜形成装置包括:第一光学监视器,测量形成的层在第一波段中显现的光谱特性;第二光学监视器,测量形成的层在第二波段中显现的光谱特性;和根据第一光学监视器测得的光谱特性或第二光学监视器测得的光谱特性或两光学监视器测得的光谱特性确定形成的各个层的膜厚度的装置。 |
地址 |
日本东京 |