发明名称 | 化学气相沉积过程中的介观尺度温区温度稳定方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种化学气相沉积过程中的介观尺度温区温度稳定方法。它包括承载衬底的坩埚放入化学气相沉积装置中,通入反应气体,特征是,在承载衬底的坩埚上覆盖金属网。所述金属网尺寸与坩埚尺寸相同,网格的尺寸是0.1-1mm。金属网的材料不与气相物质和沉积物质发生化学反应。金属网的材料熔点高于化学气相的熔点。本发明有效消除了化学气相沉积过程中介观生长区域内各处温度分布的不均匀性,保证了沉积基底上介观区域内材料生长的温度一致性,尤其对纳米材料的可控均匀生长提供了有效途径。 | ||
申请公布号 | CN1814858A | 申请公布日期 | 2006.08.09 |
申请号 | CN200610049615.9 | 申请日期 | 2006.02.27 |
申请人 | 浙江大学 | 发明人 | 沙健;何铭 |
分类号 | C23C16/52(2006.01) | 主分类号 | C23C16/52(2006.01) |
代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人 | 张法高 |
主权项 | 1.一种化学气相沉积过程中的介观尺度温区温度稳定方法,它包括将承载衬底的坩埚放入化学气相沉积装置中,并通入反应气体进行化学气相沉积反应,其特征在于,在所述的承载衬底的坩埚上覆盖金属网。 | ||
地址 | 310027浙江省杭州市浙大路38号 |