Agent for reducing substrate dependence of resist,申请号EP20000112206-传众专利搜索

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发明名称	Agent for reducing substrate dependence of resist
摘要
申请公布号	EP1059563(B1)	申请公布日期	2006.08.09
申请号	EP20000112206	申请日期	2000.06.07
申请人	WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.	发明人	URANO, FUMIYOSHI;KATANO, NAOKI;KIRYU, TOMOKO
分类号	G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039	主分类号	G03F7/004
代理机构		代理人
主权项
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