| 发明名称 | 基底及其制造方法、微透镜基底、透射屏和后投射器 | ||
| 摘要 | 一种根据本发明制造具有多个凹面部分(3)的基底(5)的方法，包括如下步骤：在该基底(5)上形成掩模(6)，通过用激光束照射在该掩模(6)中形成多个初始孔(61)，以及通过对具有多个初始孔(61)的掩模(6)进行蚀刻处理而在基底(5)中形成多个凹面部分。 | ||
| 申请公布号 | CN1268942C | 申请公布日期 | 2006.08.09 |
| 申请号 | CN200410039763.3 | 申请日期 | 2004.01.29 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 清水信雄;山下秀人 |
| 分类号 | G02B3/00(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G02B3/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王新华 |
| 主权项 | 1.一种制造具有多个凹面部分的基底的方法，该方法包括如下步骤：在所述基底上形成掩模；通过用激光束照射的方法在所述掩模中形成多个初始孔；以及通过对形成有所述多个初始孔的所述掩模进行蚀刻处理以在所述基底中形成多个凹面部分。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||