| 发明名称 | 正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图案的方法 | ||
| 摘要 | 一种正型抗蚀剂组合物，该抗蚀剂组合物包括在酸作用下显示增加的碱溶解度的树脂组分(A)、通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)和有机溶剂(C)。组分(A)具有：(i)结构单元(a1)，其含有可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，(ii)结构单元(a2)，其含有比结构单元(a1)中含有的可酸解离的、溶解抑制基团更不容易解离的可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，和(iii)结构单元(a3)，其含有内酯官能团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯。 | ||
| 申请公布号 | CN1813222A | 申请公布日期 | 2006.08.02 |
| 申请号 | CN200480018215.0 | 申请日期 | 2004.06.28 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 林亮太郎;竹下优;岩井武 |
| 分类号 | G03F7/039(2006.01);C08F220/18(2006.01) | 主分类号 | G03F7/039(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 程金山 |
| 主权项 | 1.一种正型抗蚀剂组合物，其包含：在酸作用下显示增加的碱溶解度的树脂组分(A)，所述的组分(A)包含：(i)结构单元(a1)，其含有可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，(ii)结构单元(a2)，其含有比结构单元(a1)中含有的可酸解离的、溶解抑制基团更不容易解离的可酸解离的、溶解抑制基团，并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，和(iii)结构单元(a3)，其含有内酯官能团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)，和有机溶剂(C)。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||