| 发明名称 | 金属内连线的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明揭示一种金属内连线的制造方法，适用于一半导体基底，此方法包括下列步骤：于该基底表面形成一第一介电层，且该第一介电层具有一开口；顺应性形成一金属层于该第一介电层及该开口中；回蚀刻该金属层以得到两独立的金属导线于该开口相对侧壁；以及形成一第二介电层填入两独立的金属导线间。 | ||
| 申请公布号 | CN1267985C | 申请公布日期 | 2006.08.02 |
| 申请号 | CN03146373.8 | 申请日期 | 2003.07.10 |
| 申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 陈逸男;陈宽谋 |
| 分类号 | H01L21/768(2006.01);H01L21/60(2006.01) | 主分类号 | H01L21/768(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王一斌 |
| 主权项 | 1.一种金属内连线的制造方法，适用于一半导体基底，此方法包括下列步骤：于该基底表面形成一第一介电层，且该第一介电层具有一开口；顺应性形成一金属层于该第一介电层及该开口中；回蚀刻该金属层以得到两独立的金属导线于该开口相对侧壁；以及形成一第二介电层填入两独立的金属导线间。 | ||
| 地址 | 台湾省桃园县 | ||