发明名称 等离子产生方法、清洗方法以及衬底处理方法
摘要 一种环形等离子发生装置中的等离子发生方法,其中所述等离子发生装置包括:具有气体入口和气体出口并形成环形通路的气体通路、以及缠绕在所述气体通路的一部分上的线圈,所述等离子发生方法包括下述工序,即:向所述气体通路中提供含有至少5%的NF<SUB>3</SUB>的Ar气体和NF<SUB>3</SUB>气体的混合气体,并由高频电能驱动所述线圈,从而使等离子点火的工序,其中所述等离子点火工序是在6.65~66.5Pa的全压力下施行的。
申请公布号 CN1813342A 申请公布日期 2006.08.02
申请号 CN200480018173.0 申请日期 2004.06.25
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 河南博;田村登;土桥和也
分类号 H01L21/31(2006.01);C23C16/44(2006.01) 主分类号 H01L21/31(2006.01)
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人 柳春雷
主权项 1.一种等离子发生方法,其用于环形等离子发生装置中,其中所述等离子发生装置包括:具有气体入口和气体出口并形成环形通路的气体通路、以及缠绕在所述气体通路的一部分上的线圈,所述等离子发生方法的特征在于,包括下述工序,即:向所述气体通路中提供含有至少5%的NF3的Ar气体和NF3气体的混合气体,并由高频电能驱动所述线圈,从而对等离子进行点火的工序,所述等离子点火工序是在6.65~66.5Pa的全压力下执行的。
地址 日本东京都