发明名称 |
等离子产生方法、清洗方法以及衬底处理方法 |
摘要 |
一种环形等离子发生装置中的等离子发生方法,其中所述等离子发生装置包括:具有气体入口和气体出口并形成环形通路的气体通路、以及缠绕在所述气体通路的一部分上的线圈,所述等离子发生方法包括下述工序,即:向所述气体通路中提供含有至少5%的NF<SUB>3</SUB>的Ar气体和NF<SUB>3</SUB>气体的混合气体,并由高频电能驱动所述线圈,从而使等离子点火的工序,其中所述等离子点火工序是在6.65~66.5Pa的全压力下施行的。 |
申请公布号 |
CN1813342A |
申请公布日期 |
2006.08.02 |
申请号 |
CN200480018173.0 |
申请日期 |
2004.06.25 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
河南博;田村登;土桥和也 |
分类号 |
H01L21/31(2006.01);C23C16/44(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/31(2006.01) |
代理机构 |
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
柳春雷 |
主权项 |
1.一种等离子发生方法,其用于环形等离子发生装置中,其中所述等离子发生装置包括:具有气体入口和气体出口并形成环形通路的气体通路、以及缠绕在所述气体通路的一部分上的线圈,所述等离子发生方法的特征在于,包括下述工序,即:向所述气体通路中提供含有至少5%的NF3的Ar气体和NF3气体的混合气体,并由高频电能驱动所述线圈,从而对等离子进行点火的工序,所述等离子点火工序是在6.65~66.5Pa的全压力下执行的。 |
地址 |
日本东京都 |