发明名称 剥离层用糊剂的制造方法以及层压型电子部件的制造方法
摘要 制造剥离层用糊剂的方法,该剥离层用糊剂用于制造层压型电子部件,包括:准备一次浆液的工序,该一次浆液含有平均粒径为0.1μm以下的陶瓷粉末、粘合剂和分散剂,且不挥发成分的浓度为30重量%以上;在上述一次浆液中添加粘合剂漆溶液,稀释上述一次浆液,准备上述不挥发成分的浓度为15重量%以下、且相对于上述陶瓷粉末100重量份上述粘合剂的含有量为12重量份以上的二次浆液的工序;以及利用湿式喷磨机对上述二次浆液施加1.5×10<SUP>6</SUP>~1.3×10<SUP>7</SUP> (1/s)的剪切速度的高压分散处理上述二次浆液的工序。
申请公布号 CN1812024A 申请公布日期 2006.08.02
申请号 CN200510113295.4 申请日期 2005.08.19
申请人 TDK株式会社 发明人 石山保;佐藤茂树
分类号 H01G4/30(2006.01);C09K3/00(2006.01) 主分类号 H01G4/30(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 郭煜;邹雪梅
主权项 1.一种制造剥离层用糊剂的方法,该剥离层用糊剂用于制造层压型电子部件,包括:准备一次浆液的工序,该一次浆液含有平均粒径为0.1μm以下的陶瓷粉末、粘合剂和分散剂,且不挥发成分的浓度为30重量%以上;在上述一次浆液中添加粘合剂漆溶液稀释上述一次浆液,准备上述不挥发成分的浓度为15重量%以下、且上述粘合剂的含有量相对于上述陶瓷粉末100重量份为12重量份以上的二次浆液的工序;以及将上述二次浆液应用于湿式喷磨机,对上述二次浆液施加剪切速度为1.5×106~1.3×107(1/s)的高压分散处理工序。
地址 日本东京都