发明名称 一种测定光学镀层或镀层系统的物理特性的方法
摘要 本发明涉及一种通过光谱透射和/或反射测量方法测定光学镀层或镀层系统的物理特性的方法,由此,根据透射和/或反射测量光谱,从已知值中选择或通过试验确定随波长变化而变化的折射率n<SUB>0</SUB>和/或消光系数k<SUB>0</SUB>的参考值;并且通过折射率和消光系数的与波长无关的变量常数K<SUB>n</SUB>和K<SUB>k</SUB>来描述表征该镀层的变量。
申请公布号 CN1811378A 申请公布日期 2006.08.02
申请号 CN200510090606.X 申请日期 2005.08.17
申请人 应用薄膜有限责任与两合公司 发明人 汉斯·格奥尔格·洛茨;于尔根·施罗德
分类号 G01N21/17(2006.01);G06F19/00(2006.01);G03F7/00(2006.01);G01B11/02(2006.01) 主分类号 G01N21/17(2006.01)
代理机构 北京邦信阳专利商标代理有限公司 代理人 王昭林;张小英
主权项 1.一种通过光谱透射和/或反射测量手段测定光学镀层或镀层系统的物理特性的方法,其特征在于:对于所述的镀层或镀层系统,根据透射和/或反射测量的光谱,从已知值选择或试验确定依赖波长的折射率n0和/或消光系数k0的参考值,以及分别由与波长无关的变量常数Kn和Kk测定与所述参考值的偏差;该偏差确定了所述镀层的特性,且该偏差由实际折射率n和/或消光系数k显示出。
地址 德国阿尔泽瑙
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