用于通过压差控制半导体器件中所用气体的流速的装置

摘要

提供一种装置，用于通过在流道中产生压差来由该压差控制半导体器件中所用气体的流速的装置。压差产生元件在半导体器件制作中所用的气体的流道中产生压差，安装在流道的旁路处的压力传感器检测该压差，处理单元CPU测量并控制气体的流速，由此本发明能够精确且快速地控制流速，并通过压差产生元件自身的过滤功能来增加气体的纯净度。

主权项

1.一种用于通过压差控制半导体器件制作中所用气体的流速的装置，包括：主体，其具有半导体器件制作中所用气体的流道；控制阀，其通过打开或关闭主体的流道来控制气流；压差产生元件，其安装在主体的流道中以产生压差；管，其被安装成穿过压差产生元件；压力传感器，其被容纳在管中以检测流道中由压差产生元件产生的压差；以及中央处理器，其根据从压力传感器输入的检测信号来计算气体的流速并对控制阀进行控制。