发明名称 |
二元光学器件变灰度掩模制作方法及装置 |
摘要 |
一种二元光学器件变灰度掩模制作方法,其特征在于它是将可显示灰阶图像的空间光调制器通过视频驱动器与计算机相连,由计算机控制和输入视频信号,再通过光束垂直照射电寻址的空间光调制器,由精缩物镜将空间光调制器上显示的灰阶图像成像置于二维位移平台上之感光版上,通过移动该平台对感光版进行逐个图形曝光,再经显影等工序后,完成灰度掩模的制作。本发明装置是将感光版置于二维位移平台上,可接收入射光束的精缩物镜位于空间光调制器和快门之间,快门位于感光版或精缩物镜上方,空间光调制器通过视频驱动器与计算机相连。本发明由于采用逐个图形进行曝光的方法使其具有内在的并行特性,可大大提高灰度掩模的制作速度和精度,降低尘产成本。 |
申请公布号 |
CN1267787C |
申请公布日期 |
2006.08.02 |
申请号 |
CN200410022816.0 |
申请日期 |
2004.01.06 |
申请人 |
中国人民解放军国防科学技术大学 |
发明人 |
颜树华;李圣怡;戴一帆;吕海宝;杨健;陈善勇;杨智;刘宗林 |
分类号 |
G03F1/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);G06F3/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F1/00(2006.01) |
代理机构 |
湖南兆弘专利事务所 |
代理人 |
傅俏梅 |
主权项 |
1、一种二元光学器件变灰度掩模制作方法,其特征在于它是将可显示灰阶图像的空间光调制器通过视频驱动器与计算机相连,由计算机控制显示驱动器向其输入并切换图像信号,再通过点光源经聚光镜、反射镜及滤光片产生平行光束垂直照射电寻址的空间光调制器,由精缩物镜将空间光调制器上显示的灰阶图像成像置于二维位移平台上之感光版上,通过移动该平台采用拼接方式对感光版进行逐个图形曝光,再经显影、定影、水洗、干燥等处理工序后,完成灰度掩模的制作。 |
地址 |
410073湖南省长沙市砚瓦池正街47号国防科技大学机电工程与自动化学院 |