用以使用原子层沉积技术沉积钨层之方法

摘要

在一实施例中，本发明提供一种用以形成一含钨层于一基材上之方法，该方法包含：定位一处理腔室内之一基材，其中基材包含一阻障层；暴露基材至一第一浸泡制程而持续一第一期间；以及藉由将一含钨前驱物与一还原剂流动入处理腔室以沈积一成核层于阻障层上。该方法更包含暴露基材至一第二浸泡制程而持续一第二期间；以及沈积一块体层于成核层上。在一实例中，阻障层包含氮化钛，并且第一与第二浸泡制程包含至少一还原气体。成核层可以藉由一原子层沈积制程或一脉冲化学气相沈积制程而被沈积，并且块体层可以藉由一化学气相沈积制程或一物理气相沈积制程而被沈积。