浸液曝光用光阻组成物及光阻图型之形成方法

摘要

本发明为一种浸液曝光用光阻组成物，其为含有基于酸之作用而使硷可溶性产生变化之树脂成份(A)之浸液曝光用光阻组成物，其中，前述树脂成份(A)为含有，具有含经放射线之照射而产生酸的酸产生基之结构单位(a0)之高分子化合物(A1)。