| 摘要 |
本发明系关于一种制造含少量还原剂之角质素的方法，其包括以下步骤：(a)在水性介质中使用还原剂来裂解含角质素之起始材料中之二硫化物(CysS–SCys)键而得中间角质素产物，其中至少90％经裂解之二硫化物键具有结构CysS^–或CysSH；(b)在pH9至14之间去除过量之还原剂而得比率R为至少10％的角质素之水溶液或分散液，其中R＝100*(〔CysS^–〕＋〔CysSH〕)／(〔CysS^–〕＋〔CysSH〕＋2〔CysS–SCys〕)；及(c)视情况地去除水而得含角质素之分散液、粉末、或颗粒。本发明进一步系关于如水溶液、分散液、粉末、颗粒之产物，及所得角质素在制备发泡体、成形物件、与调配物之用途。 |
