发明名称 超音波洗净系统及方法
摘要 一种超音波洗净系统包含一超音波洗净器以及一气泡产生器,气泡产生器系能产生含复数个微奈米气泡之微乳泡水。超音波洗净器与气泡产生器系彼此互相连通,使微乳泡水可输出至超音波洗净器,进行超音波振荡洗净。
申请公布号 TWI259110 申请公布日期 2006.08.01
申请号 TW094132768 申请日期 2005.09.22
申请人 台达电子工业股份有限公司 发明人 张绍雄;张朝森
分类号 B08B3/12 主分类号 B08B3/12
代理机构 代理人
主权项 1.一种超音波洗净系统,包括: 一超音波洗净器;以及 一气泡产生器,系产生含复数个微奈米气泡之微乳 泡水,并与该超音波洗净器连通,以输出该微乳泡 水至该超音波洗净器内。 2.如申请专利范围第1项所述之洗净系统,其中该些 微奈米气泡之尺寸系介于1奈米与100微米。 3.如申请专利范围第1项所述之洗净系统,更包括: 一储液槽,系分别与该超音波洗净器与该气泡产生 器连通,用以静置该气泡产生器所产生之该微乳泡 水。 4.如申请专利范围第1项所述之洗净系统,更包括: 一溢流装置,系装设于该超音波洗净器之一端,以 去除该超音波洗净器所产生之悬浮物。 5.如申请专利范围第1项所述之洗净系统,其中该超 音波洗净器包括: 一振荡子; 一位于该振荡子一侧之洗净槽;以及 一容置于该洗净槽中之治具。 6.一种超音波洗净方法,其步骤包括: 提供一超音波洗净器; 产生含复数个微奈米气泡之微乳泡水; 将该微乳泡水输送至该超音波洗净器;以及 进行超音波清洗。 7.如申请专利范围第6项所述之洗净方法,其中该等 微奈米气泡之尺寸系介于1奈米与100微米。 8.如申请专利范围第6项所述之洗净方法,其中在产 生该微乳泡水后,静置一段时间,再输送至该超音 波洗净器。 9.如申请专利范围第8项所述之洗净方法,其中该微 乳泡水系由一气泡产生器所产生。 10.如申请专利范围第9项所述之洗净方法,其中该 超音波洗净器与该气泡产生器之间系设置一储液 槽,用以静置该微乳泡水。 11.如申请专利范围第6项所述之洗净方法,其步骤 更包括: 去除该超音波洗净器所产生之悬浮物。 12.如申请专利范围第11项所述之洗净方法,该去除 该超音波洗净器所产生之悬浮物步骤系利用一溢 流装置装设于该超音波洗净器之一端。 13.如申请专利范围第6项所述之洗净方法,其中该 超音波洗净器包括: 一振荡子; 一位于该振荡子一侧之洗净槽;以及 一容置于该洗净槽中之治具。 图式简单说明: 图1显示习知超音波洗净器之示意图; 图2显示本发明之超音波洗净系统之一较佳实施例 示意图; 图3显示本发明之超音波洗净系统之另一较佳实施 例示意图;以及 图4显示本发明之超音波洗净方法之一流程图。
地址 桃园县龟山乡山莺路252号
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