发明名称 光学位置评估装置及方法
摘要 本发明系关于一种微影装置,其包含一支撑一基板之基板台,该基板在其一表面上具有多个对准标记。该装置进一步包含一框架,其可相对于该基板而移动以提供用于操作之一扫描或步进模式。投影系统之一阵列横越该框架而安置,以用于将个别图案化光束投影至该基板之一目标部分上。复数个对准标记侦测器附接至该框架,且使用个别线性驱动机构可相对于该框架而移动。一位置感测器与每一对准标记侦测器关联以用于判定该侦测器相对于该框架之位置。一控制系统在一微影程序期间负责该等侦测器于该基板上之对准标记图案上方的初始定位,并负责该框架及该基板之动态对准。
申请公布号 TW200627096 申请公布日期 2006.08.01
申请号 TW094136097 申请日期 2005.10.17
申请人 ASML公司 发明人 承-坤 古
分类号 G03F9/00;G03F7/20;H01L23/544 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰