| 摘要 |
一种光阻组成物，其为含有：(A)具有式(1)、(2)及(3)之所示结构单位之聚矽氧烷(polysiloxane)化合物、(B)式(4)之酸产生剂、(C)含氮有机化合物、(D)溶剂所得之光阻组成物，094134719-p01.bmp094134719-p02.bmp094134719-p03.bmp(式中，R^1为键结有羟基之碳原子所再键结之碳原子上键结合计3个以上氟原子之有机基；R^2为烃基；R^3为被酸分解性保护基所保护之具有羧基的有机基；R^4与R^2之定义相同；R^5为具有内酯环之有机基；R^6与R^2之定义相同；p为0或1；q为0或1；r为0或1)094134719-p04.bmp本发明之光阻组成物，可制得未出现T–Top形状，且可得到高解析性能之光阻组成物，特别是适用于ArF曝光中之2层光阻组成物094134719-p01.bmp |
