发明名称 基板处理装置及基板处理方法
摘要 在将基板搬运到曝光装置时,使用介面用搬运机构之上侧之手臂,在将基板从曝光装置搬出时,使用介面用搬运机构之下侧之手臂。在将被曝光装置曝光处理后之基板搬运到乾燥处理部时,使用第5机器人之下侧之手臂,在搬运从乾燥处理部搬出之乾燥处理后之基板时,使用第5机器人之上侧之手臂。亦即,在未附着有液体之基板之搬运时,使用上侧之手臂,在附着有液体之基板之搬运时,使用下侧之手臂。
申请公布号 TW200627575 申请公布日期 2006.08.01
申请号 TW094141869 申请日期 2005.11.29
申请人 大斯克琳制造股份有限公司 发明人 浅野彻;鸟山幸夫;田口隆志;三桥毅;金山幸司;奥村刚
分类号 H01L21/68;H01L21/027;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项
地址 日本
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