摘要 |
Un mecanismo de elevación con a) un marco de base (1), b) un marco de soporte (2) que puede subir y bajar, c) un dispositivo de tijeras (4) que se apoya en el soporte de base 81), muestra un eje central de las tijeras (43) e incide en el marco de soporte (2) guiado de forma paralela, y con d) una palanca excéntrica (55) que se monta de forma giratoria en el eje de las tijeras (43), de forma esencialmente simétrica, de modo que descansa en una posición básica entre el marco de base y el de soporte (1, 2) y, durante el giro alrededor del eje de las tijeras (43) para la subida y/o bajada del marco de soporte (2), se apoya en el marco de base y el de soporte (1, 2), con lo que el dispositivo de elevación excéntrico (5) se sitúa esencialmente en el centro entre el marco de base y el de soporte (1, 2), caracterizado porque la palanca excéntrica (55) muestra rodillos portantes (551, 552) que, durante la subida y/o bajada del marco de soporte (2), inciden en el marco de base y el de soporte (1, 2).
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