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发明名称 Method for forming a metal film using atomic layer deposition
摘要
申请公布号 KR100604787(B1) 申请公布日期 2006.07.31
申请号 KR19990042601 申请日期 1999.10.04
申请人 发明人
分类号 H01L21/3205 主分类号 H01L21/3205
代理机构 代理人
主权项
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