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发明名称 SINGLE SUBSTRATE HEAT TREATING APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR PROCESS SYSTEM
摘要
申请公布号 KR100605799(B1) 申请公布日期 2006.07.31
申请号 KR19990043599 申请日期 1999.10.09
申请人 发明人
分类号 H01L21/324;C23C14/08;C23C16/56 主分类号 H01L21/324
代理机构 代理人
主权项
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