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经营范围
发明名称
INTENSITY CONTROLLING MASK FOR LASER, LASER APPARATUS COMPRISING THE SAME AND MAKING METHOD OF THIN FILM TRANSISTOR USING THE SAME
摘要
申请公布号
KR20060086169(A)
申请公布日期
2006.07.31
申请号
KR20050007116
申请日期
2005.01.26
申请人
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
发明人
PARK, CHEOL HO
分类号
G02F1/136
主分类号
G02F1/136
代理机构
代理人
主权项
地址
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