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发明名称 POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING SAME
摘要
申请公布号 KR100606630(B1) 申请公布日期 2006.07.28
申请号 KR20040068898 申请日期 2004.08.31
申请人 发明人
分类号 C08F212/14;G03C1/76;G03F7/004;G03F7/022;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 C08F212/14
代理机构 代理人
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