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经营范围
发明名称
Sputtering Etching Apparatus
摘要
申请公布号
KR100606089(B1)
申请公布日期
2006.07.28
申请号
KR20030053478
申请日期
2003.08.01
申请人
发明人
分类号
H01L21/306
主分类号
H01L21/306
代理机构
代理人
主权项
地址
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