| 发明名称 |
CMP Kissen, das eine radial abwechselnde Rillensegmentkonfiguration aufweist |
| 摘要 |
Ein Polierkissen (104) weist eine ringförmige Polierspur (122) auf und enthält eine Mehrzahl von Rillen (148), welche die Polierspur queren. Jede Rille enthält eine Mehrzahl von Flußsteuer- bzw. -regelsegmenten (CS1-CS3) und wenigstens zwei Diskontinuitäten in der Neigung (D1, D2), die in der Polierspur angeordnet sind.
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| 申请公布号 |
DE102006000766(A1) |
申请公布日期 |
2006.07.27 |
| 申请号 |
DE200610000766 |
申请日期 |
2006.01.04 |
| 申请人 |
ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS CMP HOLDINGS, INC. |
发明人 |
ELMUFDI, CAROLINA L.;HENDRON, JEFFREY J.;MULDOWNEY, GREGORY P. |
| 分类号 |
B24D13/14;B24B29/00;B24B37/04;H01L21/302 |
主分类号 |
B24D13/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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