发明名称 | 增加氢等离子体炬稳定性和功率的方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种增加氢等离子体炬稳定性和功率的方法,其特征在于在氢等离子体炬工作状态下,从氢等离子体炬位于正负电极之间的气体啧嘴中连续稳定的喷入气态烃类化合物或其混合物到等离子体炬中,气态烃类化合物或其混合物在电弧的作用下电离形成粒度很细的碳黑,生成的碳黑贴附在等离子体炬的内表面电极上,在等离子炬内表面电极形成保护层,气态烃类化合物或气态烃类混合物沿等离子体炬内表面形成环柱状气旋,两者使高焓且导热性高的氢等离子稳定的从等离子炬中进入到反应器中。 | ||
申请公布号 | CN1807371A | 申请公布日期 | 2006.07.26 |
申请号 | CN200610038150.7 | 申请日期 | 2006.01.26 |
申请人 | 中国科学院等离子体物理研究所 | 发明人 | 方世东;熊新阳;孟月东 |
分类号 | C07C11/24(2006.01) | 主分类号 | C07C11/24(2006.01) |
代理机构 | 合肥华信专利商标事务所 | 代理人 | 余成俊 |
主权项 | 1、增加氢等离子体炬稳定性和功率的方法,其特征在于在氢等离子体炬工作状态下,从氢等离子体炬位子正负电极之间的气体喷嘴中连续稳定的喷入气态烃类化合物或其混合物到等离子体炬中,气态烃类化合物或其混合物在电弧的作用下电离形成粒度很细的碳黑,生成的碳黑贴附在等离子体炬的内表面电极上,在等离子炬内表面电极形成保护层,气态烃类化合物或气态烃类混合物沿等离子体炬内表面形成环柱状气旋,两者使高焓且导热性高的氢等离子稳定的从等离子炬中进入到反应器中。 | ||
地址 | 230031安徽省合肥市蜀山湖路350号 |