发明名称 | 膜形成方法、光电装置的制造方法及电子设备 | ||
摘要 | 一种膜形成方法、光电装置的制造方法及电子设备,该膜形成方法,包括:涂敷工序,喷出液状体并在基板上涂敷;干燥工序,在所述涂敷工序后所述液状体中含有的溶剂的蒸发量超过40%之前,利用干燥装置对涂敷在所述基板上的所述液状体进行干燥。 | ||
申请公布号 | CN1808248A | 申请公布日期 | 2006.07.26 |
申请号 | CN200610004893.2 | 申请日期 | 2006.01.12 |
申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 蛭间敬 |
分类号 | G02F1/1337(2006.01);B05D1/00(2006.01);G02F1/133(2006.01) | 主分类号 | G02F1/1337(2006.01) |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
主权项 | 1、一种膜形成方法,其中,包括:涂敷工序,喷出液状体并在基板上涂敷;干燥工序,在所述涂敷工序后所述液状体中含有的溶剂的蒸发量超过40%之前,利用干燥装置对涂敷在所述基板上的所述液状体进行干燥。 | ||
地址 | 日本东京 |