| 发明名称 | 基板处理装置及其处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及基板处理装置及其处理方法，所述基板处理装置包括：装载及卸载部，装载需进行表面处理的基板，或卸载已完成表面处理的基板；第一输送器，输送上述装载及卸载部中装载的基板；升降部，将通过上述第一输送器输送的基板搬送到下方；第二输送器，将通过上述升降部装载的基板输送至上述装载及卸载部；表面处理部，对通过上述第二输送器输送的基板进行表面处理。本发明具有上述结构，因其将基板的装载位置和卸载位置集中在一处，并使用单一装置进行基板装载和卸载，简化了基板移向基板装置的输送路径，提高了清净室的使用效率，并可降低清净室的设备费用及维修费用。 | ||
| 申请公布号 | CN1808704A | 申请公布日期 | 2006.07.26 |
| 申请号 | CN200510127885.2 | 申请日期 | 2005.12.06 |
| 申请人 | K.C.科技株式会社 | 发明人 | 俞龙根;权五炅;金珍玉;崔成元;姜信载;林锡泽;徐奉揆 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01);H01L21/677(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/67(2006.01) |
| 代理机构 | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人 | 黄威;张金海 |
| 主权项 | 1、一种基板处理装置，其特征在于，包括：一装载及卸载部，用以装载需进行表面处理的基板，或卸载已完成表面处理的基板；一第一输送器，用以输送装载于上述装载及卸载部上的基板；一升降部，用以把通过上述第一输送器输送的基板搬送到下方；一第二输送器，用以把通过上述升降部装载的基板输送至上述装载及卸载部；以及一表面处理部，对通过上述第二输送器输送来的基板进行表面处理。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||