| 发明名称 | 用于抗反射涂层的有机聚合物和其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了抗反射涂料聚合物，包含该聚合物的抗反射涂料(ARC)组合物和使用该种组合物的方法。本发明的聚合物特别适用于KrF(248nm)或ArF(193nm)激光作为光源的超微平版印刷工艺中，其包括能够吸收在超微平版印刷工艺中所用波长处的光线的发色团。所述ARC降低或阻止光的背反射和衍射和/或反射光造成的临界尺寸变化的问题；也明显地降低或消除了驻波效应和反射刻痕。所述聚合物适用于制备可用于64M、256M、1G、4G和16G DRAM半导体器件的稳定的超细图案。并改进了此种半导体器件的产率。 | ||
| 申请公布号 | CN1266237C | 申请公布日期 | 2006.07.26 |
| 申请号 | CN00136966.0 | 申请日期 | 2000.12.29 |
| 申请人 | 现代电子产业株式会社 | 发明人 | 郑旼镐;洪圣恩;白基镐 |
| 分类号 | C09D133/08(2006.01);C09D5/00(2006.01) | 主分类号 | C09D133/08(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 过晓东 |
| 主权项 | 1、一种适合用于制备半导体器件的抗反射涂料组合物，其包含：(i)具有下列通式的聚合物：<img file="C001369660002C1.GIF" wi="485" he="428" />或<img file="C001369660002C2.GIF" wi="649" he="411" />其中，R<sup>1</sup>和R<sup>3</sup>独立地是C<sub>1</sub>-C<sub>5</sub>亚烷基；R<sup>2</sup>，R<sup>4</sup>和R<sup>6</sup>之中的每一个独立地是氢或烷基；R<sup>5</sup>是烷基；且x、y和z均为0.01-0.99之间的摩尔分数；和(ii)具有下列通式的聚合物：<img file="C001369660002C3.GIF" wi="267" he="171" />其中，R<sup>7</sup>是氢或烷基；和R<sup>8</sup>是烷基。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||