发明名称 METHODS FOR REDUCING MASK EROSION DURING PLASMA ETCHING
摘要
申请公布号 KR100604741(B1) 申请公布日期 2006.07.26
申请号 KR20007008510 申请日期 2000.08.04
申请人 发明人
分类号 H01J37/32 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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