发明名称 第III族氮化物半导体激光器及其制造方法
摘要 一种氮化物半导体激光器,其中激励电压较低并且光线的横模稳定,它具有多个由第III族氮化物半导体构成的结晶层,第III族氮化物半导体通过公式(Al<SUB>x</SUB>Ga<SUB>1-x</SUB>)<SUB>1-y</SUB>In<SUB>y</SUB>N(其中0≤x≤1,0≤y≤1)表示。该层包括一个激活层侧导引层,它接近于第III族氮化物半导体结晶层中的激活层并且由Al<SUB>x’</SUB>Ga<SUB>1-x’-y’</SUB>In<SUB>y’</SUB>N(其中0≤x’≤1,0≤y’≤1)构成,沉积在所述引导层上并且具有条纹状孔隙的电流限制AlN层,包括一个由Al<SUB>x”</SUB>Ga<SUB>1-x”-y”</SUB>In<SUB>y”</SUB>N(其中0≤x”≤1,0≤y”≤1)构成并且沉积填充电流限制层孔隙的电极侧导引层,以及一个由Al<SUB>u</SUB>Ga<SUB>1-u-v</SUB>In<SUB>v</SUB>N(其中0≤u≤1,0≤v≤1)构成并且沉积在电极侧导引层上的镀层。
申请公布号 CN1266816C 申请公布日期 2006.07.26
申请号 CN02105992.6 申请日期 2002.04.12
申请人 先锋株式会社 发明人 渡边温;木村义则;太田启之
分类号 H01S5/323(2006.01) 主分类号 H01S5/323(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 韩宏
主权项 1、一种具有多个由第III族氮化物半导体构成的结晶层的氮化物半导体激光器,其中第III族氮化物半导体由公式(AlxGa1-x)1-yInyN表示,0≤x≤1,0≤y≤1,该氮化物半导体激光器包括:邻近所述第III族氮化物半导体结晶层中的激活层并且由Iny’Ga1-y’N构成的激活层侧导引层,其中0≤y’≤1;沉积在所述激活层侧导引层上并且具有条纹状孔隙的一个电流限制AlN层,其中所述电流限制AlN层不掺杂质;由Iny”Ga1-y”N构成的并且沉积以填充所述电流限制层孔隙的电极侧导引层,其中0≤y”≤1;以及由AluGa1-uN构成并且沉积在所述电极侧导引层上的一个镀层,其中0<u≤1。
地址 日本东京