| 发明名称 |
Chemical amplified photoresist compositions |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG123557(A1) |
申请公布日期 |
2006.07.26 |
| 申请号 |
SG20030002488 |
申请日期 |
2003.05.06 |
| 申请人 |
EVERLIGHT USA, INC. |
发明人 |
CHEN CHI-SHENG;LI YEN-CHENG;CHENG MENG-HSUM |
| 分类号 |
C08F20/10;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 |
主分类号 |
C08F20/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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