发明名称 微影用光罩护层
摘要 本发明提供一种具实用性之微影用光罩护层,其对于例如200至300奈米之远紫外线,尤其是200奈米以下之真空紫外线之短波长光,呈高透光率及耐光性。此一微影用光罩护层系至少具有光罩护层膜、张贴该光罩护层膜之护层框,以及设于该光罩护层框之另一端面的黏着层之微影用光罩护层,其特征为:上述光罩护层膜系由氟掺杂氧化矽及含氟树脂之复合构造制成。
申请公布号 TWI258633 申请公布日期 2006.07.21
申请号 TW093119037 申请日期 2004.06.29
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 永田爱彦
分类号 G03F1/14 主分类号 G03F1/14
代理机构 代理人 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼
主权项 1.一种微影用光罩护层,系至少具有光罩护层膜,张 贴该光罩护层膜之光罩护层框,以及设于该光罩护 层框另一端面之黏着层的微影用光罩护层,其特征 为:上述光罩护层膜系由氟掺杂氧化矽与含氟树脂 之复合构造制成。 2.如申请专利范围第1项之微影用光罩护层,其中上 述光罩护层膜的氟掺杂氧化矽层之厚度在20微米 以下,含氟树脂层之厚度在1微米以下。 3.如申请专利范围第1或2项之微影用光罩护层,其 中上述含氟树脂系非晶质含氟聚合物。 4.如申请专利范围第1或2项之微影用光罩护层,其 中上述氟掺杂氧化矽之OH基含量系10ppm以下。 5.如申请专利范围第1或2项之微影用光罩护层,其 中上述光罩护层膜的含氟树脂层于波长157奈米之 紫外线吸收系数系0.06/微米以下。 6.如申请专利范围第1或2项之微影用光罩护层,其 中上述光罩护层框系由矽单晶制成。 7.如申请专利范围第6项之微影用光罩护层,其中上 述光罩护层膜及上述光罩护层框系介以矽薄膜而 接合。 8.如申请专利范围第6项之微影用光罩护层,其中上 述构成光罩护层框的矽单晶之晶面方位系(100)面 。 图式简单说明: 第1图本发明光罩护层之一例的略图。(a)光罩护层 之剖视图,(b)光罩护层膜之放大剖视图。 第2图光罩护层之一例的侧视图。 第3图(A)~(H)用以说明直接接合法之过程图。
地址 日本
您可能感兴趣的专利