发明名称 半张力遮罩用低热膨胀铁镍系合金,使用该合金之半张力遮罩,以及彩色映像管
摘要 一种用于半张力遮罩之具有极佳潜变性质的低热膨胀铁镍基合金,其组成以重量百分比为34至38%的镍、0.01至0.5%的锰、0.0003至0.0015%的硼、0.0010至0.0050%的氮,以及平衡的铁与无可避免的杂质。其更包含有0.005%至0.20%的矽,以及0.005至0.030%的铝。在不可避免的杂质之中,分别为碳被控制在不超过0.010%,磷被控制在不超过0.015%,而硫被控制在不超过0.010%。该合金系于热滚轧或冷滚轧之后至少一次,在650至750℃之间的非氧化性气氛中被退火30分钟至小于5小时。其系于最终冷滚轧后施加弛力退火。一种使用上述合金之半张力遮罩。一种使用上述半拉伸张力遮罩的彩色映像管。
申请公布号 TWI258511 申请公布日期 2006.07.21
申请号 TW089115767 申请日期 2000.08.05
申请人 日?金属股份有限公司 发明人 小野俊之
分类号 C22C38/08 主分类号 C22C38/08
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 1.一种用于半张力遮罩之具有极佳潜变性质的低 热膨胀铁镍基合金,其特征在于组成以重量百分比 为34至38%的镍、0.01至0.5%的锰、0.0003至0.0015%的硼 、0.0010至0.0050%的氮,以及平衡的铁与无可避免的 杂质,其中B和N形成了析出于Fe-Ni合金中的氮化硼 微粒。 2.一种用于半张力遮罩之具有极佳潜变性质的低 热膨胀铁镍基合金,其特征在于组成以重量百分比 为34至38%的镍、0.01至0.5%的锰、0.0003至0.0015%的硼 、0.0010至0.0050%的氮,以及更进一步由0.005%至0.20 % 的矽,以及0.005至0.030%的铝,以及平衡的铁与无可避 免的杂质。 3.如申请专利范围第1或2项之该铁镍基合金,其中 在不可避免的杂质之中,碳被控制在不超过0.010%, 磷被控制在不超过0.015%,而硫被控制在不超过0.010% 。 4.如申请专利范围第1或2项之该铁镍基合金,其系 于热滚轧或冷滚轧之后至少一次,在650至7500C之间 的非氧化性气氛中被退火30分钟至小于5小时。 5.如申请专利范围第3项之该铁镍基合金,其系于热 滚轧或冷滚轧之后至少一次,在650至750℃之间的非 氧化性气氛中被退火30分钟至小于5小时。 6.如申请专利范围第4项之该铁镍基合金,其系于最 终冷滚轧之后施加弛力退火。 7.如申请专利范围第5项之该铁镍基合金,其系于最 终冷滚轧之后施加弛力退火。 8.一种使用如申请专利范围第1至7项中之任何一项 的铁镍基合金之半张力遮罩,其中该铁镍基合金的 遮罩材料系藉由蚀刻接着进行黑化处理而形成电 子束穿经网点或沟槽,以及接着被支撑在一框架上 ,而将其在上、下方向上拉伸而形成。 9.一种使用如申请专利范围第8项之半张力遮罩的 彩色映像管。 图式简单说明: 第1(a)图及第1(b)图分别为示意举例说明半拉伸张 力型遮罩与荫栅型遮罩的说明图式。
地址 日本