| 主权项 |
1.一种表面光源装置,其包含: 一光源本体,具有一内部空间,一放电气体可注入 其中; 复数个分隔壁,将该内部空间分成复数个放电空间 ,该等分隔壁具有一宽度,可用以抑制一寄生电容 的形成,一电流可藉由该寄生电容于该等分隔壁间 流动;及 一电极,用以对该放电气体施加一电压。 2.依申请专利范围第1项之表面光源装置,其中该等 分隔壁具有之宽度为约3mm至5mm之间。 3.依申请专利范围第1项之表面光源装置,其另包含 一光反射层,形成于该光源本体的若干部分上,该 等部分系对应到该等分隔壁。 4.依申请专利范围第1项之表面光源装置,其中该光 源本体另包含: 一第一基板; 一第二基板,设于该第一基板的上方;及 一密封构件,设于该第一基板与第二基板的边缘部 分之间,以界定出该内部空间,其中该等分隔壁系 设于该内部空间中。 5.依申请专利范围第1项之表面光源装置,其中该光 源本体另包含: 一第一基板;及 一第二基板,设于该第一基板的上方并与该等分隔 壁一体形成,该等分隔壁系装设到该第一基板上, 以形成该等放电空间。 6.依申请专利范围第1项之表面光源装置,其中该光 源本体另包含: 一第一基板,与该等分隔壁一体形成;及 一第二基板,设于该第一基板的上方,该等分隔壁 系装设到该第二基板上,以形成该等放电空间。 7.依申请专利范围第1项之表面光源装置,其中该光 源本体另包含: 一第一基板,与若干第一分隔壁部分一体形成;及 一第二基板,设于该第一基板的上方并与若干第二 分隔部分壁一体形成,该等第二分隔壁部分系装设 到该等第一分隔壁部分上,以形成该等分隔壁。 8.依申请专利范围第1项之表面光源装置,其中该放 电空间具有一宽高比,其为约2.5:1至约6:1之间。 9.依申请专利范围第1项之表面光源装置,其中该放 电空间具有一宽高比,其为约3:1至约5:1之间。 10.依申请专利范围第1项之表面光源装置,其中该 放电空间具有一宽高比,其为约3.5:1至约4.5:1之间 。 11.一种表面光源装置,其包含: 一光源本体,包含若干分隔壁,可将一内部空间分 成复数个放电空间,一放电气体可注入该等放电空 间中; 一光反射层,形成于该光源本体的一外表面的若干 部分上,该等部分系对应到该等分隔壁;及 一电极,用以对该放电气体施加一电压。 12.依申请专利范围第11项之表面光源装置,其中该 光源本体另包含: 一第一基板; 一第二基板,设于该第一基板的上方;及 一密封构件,设于该第一基板与第二基板的边缘部 分之间,以界定出该内部空间,其中该等分隔壁系 设于该内部空间中。 13.依申请专利范围第11项之表面光源装置,其中该 光源本体另包含: 一第一基板;及 一第二基板,设于该第一基板的上方并与该等分隔 壁一体形成,该等分隔壁系装设到该第一基板上, 以形成该等放电空间。 14.依申请专利范围第11项之表面光源装置,其中该 光源本体另包含: 一第一基板,与该等分隔壁一体形成;及 一第二基板,设于该第一基板的上方,该等分隔壁 系装设到该第二基板上,以形成该等放电空间。 15.依申请专利范围第11项之表面光源装置,其中该 光源本体另包含: 一第一基板,与若干第一分隔壁部分一体形成;及 一第二基板,设于该第一基板的上方并与若干第二 分隔壁部分一体形成,该等第二分隔壁部分系装设 到该等第一分隔壁部分上,以形成该等分隔壁。 16.依申请专利范围第11项之表面光源装置,其中该 放电空间具有一宽高比,其为约2.5:1至约6:1之间。 17.依申请专利范围第11项之表面光源装置,其中该 放电空间具有一宽高比,其为约3:1至约5:1之间。 18.依申请专利范围第11项之表面光源装置,其中该 放电空间具有一宽高比,其为约3.5:1至约4.5:1之间 。 19.一种表面光源装置,其包含: 一光源本体,包含若干分隔壁,可将一内部空间分 成复数个放电空间,一放电气体可注入该等放电空 间中;及 一电极,用以对该放电气体施加一电压, 其中该等放电空间具有一宽高比,其为约2.5:1至约6 :1之间。 20.依申请专利范围第19项之表面光源装置,其中该 放电空间具有一宽高比,其为约3:1至约5:1之间。 21.依申请专利范围第19项之表面光源装置,其中该 放电空间具有一宽高比,其为约3.5:1至约4.5:1之间 。 22.依申请专利范围第19项之表面光源装置,其中该 光源本体另包含: 一第一基板; 一第二基板,设于该第一基板的上方;及 一密封构件,设于该第一基板与第二基板的边缘部 分之间,以界定出该内部空间,其中该等分隔壁系 设于该内部空间中。 23.依申请专利范围第19项之表面光源装置,其中该 光源本体另包含: 一第一基板;及 一第二基板,设于该第一基板的上方并与该等分隔 壁一体形成,该等分隔壁系装设到该第一基板上, 以形成该等放电空间。 24.一种表面光源装置,其包含: 一光源本体,具有一内部空间,一放电气体可注入 其中; 复数个分隔壁,将该内部空间分成复数个放电空间 ,该等分隔壁具有一宽度,其为约3mm至5mm之间;及 一电极,用以对该放电气体施加一电压, 其中该等放电空间具有一宽高比,其为约2.5:1至约6 :1之间。 25.一种背光单元,其包含: 一表面光源装置,包含:一光源本体,具有一内部空 间,一放电气体可注入其中;复数个分隔壁,将该内 部空间分成复数个放电空间,该等分隔壁具有一宽 度,可用以抑制一寄生电容的形成,一电流可藉由 该寄生电容于该等分隔壁间流动;及一电极,用以 对该放电气体施加一电压; 一盖子,用以容纳该表面光源装置; 一光学片,设于该表面光源装置与该盖子之间;及 一反向器,用以对该表面光源装置之电极施加一放 电电压。 26.依申请专利范围第25项之背光单元,其中该等分 隔壁具有之宽度为约3mm至5mm之间。 27.依申请专利范围第25项之背光单元,其中该放电 空间具有一宽高比,其为约2.5:1至约6:1之间。 28.依申请专利范围第25项之背光单元,其中该放电 空间具有一宽高比,其为约3:1至约5:1之间。 29.依申请专利范围第25项之背光单元,其中该放电 空间具有一宽高比,其为约3.5:1至约4.5:1之间。 图式简单说明: 第1图:为一横剖面图,其显示一种习用的表面光源 装置。 第2图:为一横剖面图,其显示根据本发明第一实施 例之表面光源装置。 第3图:为显示第2图中的一部份III的放大横剖面图 。 第4图:为一横剖面图,其显示根据本发明第二实施 例之表面光源装置。 第5图:为显示第4图中的一部份V的放大横剖面图。 第6图:为一横剖面图,其显示根据本发明第三实施 例之表面光源装置。 第7图:为显示第6图中的一部份VII的放大横剖面图 。 第8图:为一横剖面图,其显示根据本发明第四实施 例之表面光源装置。 第9图:为显示第8图中的一部份IX的放大横剖面图 。 第10图:为一分解透视图,其显示根据本发明第五实 施例之背光单元。 第11图:为一照片,其显示一种习用的表面光源装置 被开启的情况。 第12图:为一照片,其显示第4图之表面光源装置被 开启的情况。 |
