发明名称 |
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines auf Galliumnitrid basierenden Einzelkristallsubstrats |
摘要 |
<p>Es werden ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung eines Nitrid basierenden Einzelkristallsubstrats beschrieben. Das Verfahren umfasst das Platzieren eines vorläufigen Substrats auf einer Aufnahme, die in einer Reaktionskammer angeordnet ist; Wachsenlassen einer Nitrideinzelkristallschicht auf dem vorläufigen Substrat und Bestrahlen mit einem Laserstrahl, um die Nitrideinzelkristallschicht von dem vorläufigen Substrat zu trennen, während das vorläufige Substrat in der Reaktionskammer platziert ist.</p> |
申请公布号 |
DE102005042587(A1) |
申请公布日期 |
2006.07.20 |
申请号 |
DE20051042587 |
申请日期 |
2005.09.08 |
申请人 |
SAMSUNG ELECTRO-MECHANICS CO., LTD. |
发明人 |
LEE, SOO MIN;KOIKE, MASAYOSHI;MIN, KYEONG IK;JANG, SUNG HWAN;KIM, MIN HO |
分类号 |
C30B29/38;C30B25/02;C30B25/18;H01L33/00;H01S3/00 |
主分类号 |
C30B29/38 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|