发明名称 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines auf Galliumnitrid basierenden Einzelkristallsubstrats
摘要 <p>Es werden ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung eines Nitrid basierenden Einzelkristallsubstrats beschrieben. Das Verfahren umfasst das Platzieren eines vorläufigen Substrats auf einer Aufnahme, die in einer Reaktionskammer angeordnet ist; Wachsenlassen einer Nitrideinzelkristallschicht auf dem vorläufigen Substrat und Bestrahlen mit einem Laserstrahl, um die Nitrideinzelkristallschicht von dem vorläufigen Substrat zu trennen, während das vorläufige Substrat in der Reaktionskammer platziert ist.</p>
申请公布号 DE102005042587(A1) 申请公布日期 2006.07.20
申请号 DE20051042587 申请日期 2005.09.08
申请人 SAMSUNG ELECTRO-MECHANICS CO., LTD. 发明人 LEE, SOO MIN;KOIKE, MASAYOSHI;MIN, KYEONG IK;JANG, SUNG HWAN;KIM, MIN HO
分类号 C30B29/38;C30B25/02;C30B25/18;H01L33/00;H01S3/00 主分类号 C30B29/38
代理机构 代理人
主权项
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