Hexagonal- Bornitrid-Film mit niedriger dielektrischer Konstante ,Film mit dielektrischer Beschichtung und Verfahren zu seiner Herstellung und Plasma-CVD-Apparat,申请号DE2001614304T-传众专利搜索

发明名称	Hexagonal- Bornitrid-Film mit niedriger dielektrischer Konstante ,Film mit dielektrischer Beschichtung und Verfahren zu seiner Herstellung und Plasma-CVD-Apparat
摘要
申请公布号	DE60114304(T2)	申请公布日期	2006.07.20
申请号	DE2001614304T	申请日期	2001.06.27
申请人	MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.	发明人	SAKAMOTO, HITOSHI;NISHIMORI, TOSHIHIKO;SONOBE, HIROSHI;YONEKURA, YOSHIMICHI;YAMASHITA, NOBUKI
分类号	C01B21/064;H01L21/205;C04B35/583;C23C14/00;C23C14/06;C23C14/58;C23C16/34;C23C16/507;C23C16/56;H01L21/318;H01L21/768;H01L23/532	主分类号	C01B21/064
代理机构		代理人
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