发明名称 |
Phasenverschiebungsmaske und Verfahren zum Herstellen derselben |
摘要 |
A phase shifting mask includes a transparent substrate having a groove; a light-shading layer formed within the groove to shade an incident light; and a phase shifting layer formed on the light-shading layer and a portion of the transparent substrate for shifting a phase of the incident light. |
申请公布号 |
DE19709246(B4) |
申请公布日期 |
2006.07.20 |
申请号 |
DE1997109246 |
申请日期 |
1997.03.06 |
申请人 |
LG SEMICON CO., LTD. |
发明人 |
LEE, JUN-SEOK |
分类号 |
G03F1/08;G03F1/14;G03F1/00;G03F1/29;G03F1/68;G03F1/80;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F1/08 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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