发明名称 Phasenverschiebungsmaske und Verfahren zum Herstellen derselben
摘要 A phase shifting mask includes a transparent substrate having a groove; a light-shading layer formed within the groove to shade an incident light; and a phase shifting layer formed on the light-shading layer and a portion of the transparent substrate for shifting a phase of the incident light.
申请公布号 DE19709246(B4) 申请公布日期 2006.07.20
申请号 DE1997109246 申请日期 1997.03.06
申请人 LG SEMICON CO., LTD. 发明人 LEE, JUN-SEOK
分类号 G03F1/08;G03F1/14;G03F1/00;G03F1/29;G03F1/68;G03F1/80;H01L21/027 主分类号 G03F1/08
代理机构 代理人
主权项
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