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发明名称 METHOD OF ETCHING AN ANTI REFLETION LAYER IN A SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20060082944(A) 申请公布日期 2006.07.20
申请号 KR20050003317 申请日期 2005.01.13
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 SEO, IL SEOK
分类号 H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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