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经营范围
发明名称
High luminosity source for EUV lithography
摘要
申请公布号
EP1319988(B1)
申请公布日期
2006.07.19
申请号
EP20020258588
申请日期
2002.12.12
申请人
NIKON CORPORATION
发明人
MURAKAMI, KATSUHIKO
分类号
G03F7/20;G21K1/06;G21K5/02;H01L21/027;H05G2/00
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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