| 发明名称 | 用于对微特征工件机械和/或化学－机械抛光的方法和包括下垫的抛光机 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于对微特征工件(112)进行机械和/或化学－机械抛光的抛光机以及方法。在一个实施例中，所述抛光机包括具有支撑表面的台，通过支撑表面所承载的下垫，以及在所述台之上的承载器组件(130)。下垫(150)具有空腔(152)，承载器组件被构造以承载微特征工件。所述抛光机还包括磁场源(170)，所述磁场源(170)被构造以在空腔中和设置在空腔中的磁流变流体(160)中产生磁场。在磁场源的影响下磁流变流体改变空腔之内的粘性。 | ||
| 申请公布号 | CN1805823A | 申请公布日期 | 2006.07.19 |
| 申请号 | CN200480016662.2 | 申请日期 | 2004.04.26 |
| 申请人 | 微米技术有限公司 | 发明人 | 詹森·B·埃勒德基 |
| 分类号 | B24B37/04(2006.01) | 主分类号 | B24B37/04(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 刘晓峰 |
| 主权项 | 1.一种用于对微特征工件进行机械和/或者化学-机械抛光的抛光机，所述抛光机包括：具有支撑表面的台；通过支撑表面所承载的下垫，下垫具有空腔；在所述台之上的工件承载器组件，所述承载器组件被构造以承载微特征工件；磁场源，所述磁场源被构造以在空腔中产生磁场；以及空腔中的磁流变流体。 | ||
| 地址 | 美国艾达荷 | ||