发明名称 |
用于光学加工抛光的标示方法 |
摘要 |
本发明公开了一种用于光学加工抛光的标示方法,利用干涉仪的波面干涉测量法,由光电器件接收干涉条纹,通过计算获得被测工件表面的高低位置分布,并生成假彩图,其特征在于:采用所述干涉仪,由同一光电器件接收干涉条纹和被测工件的像,在显示器上进行实时动态显示,将所述假彩图处理成半透明图像,在显示器上叠加显示在所述干涉条纹及被测工件的像上,根据假彩图和实时干涉条纹像对需要加工的高位置和不需要加工或需要少加工的低位置进行标示。本发明能方便地实时标示高低位置;可以避免象差造成的定位误差,特别适合于高精度光学元件的加工。 |
申请公布号 |
CN1803402A |
申请公布日期 |
2006.07.19 |
申请号 |
CN200610037922.5 |
申请日期 |
2006.01.20 |
申请人 |
苏州大学 |
发明人 |
郭培基 |
分类号 |
B24B49/12(2006.01);B24B13/00(2006.01) |
主分类号 |
B24B49/12(2006.01) |
代理机构 |
苏州创元专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
陶海锋 |
主权项 |
1.一种用于光学加工抛光的标示方法,利用干涉仪的波面干涉测量法,由光电器件接收干涉条纹,通过计算获得被测工件表面的高低位置分布,并生成假彩图,其特征在于:采用所述干涉仪,由同一光电器件接收干涉条纹和被测工件的像,在显示器上进行实时动态显示,将所述假彩图处理成半透明图像,在显示器上叠加显示在所述干涉条纹及被测工件的像上,根据假彩图和实时干涉条纹像对需要加工的高位置和不需要加工或需要少加工的低位置进行标示。 |
地址 |
215006江苏省苏州市沧浪区十梓街1号 |