| 发明名称 | 芳族羧酸的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明有关于一种化合物的制造方法，该方法包括：(A)在反应器中、在高于大气压力但不高于20MPa的压力范围内、和在50℃-350℃的温度范围内进行反应，以生成芳族羧酸的反应步骤；(B)在分离装置中、在0.11MPa-22MPa的压力范围内、和在50℃-350℃的温度范围内从含有芳族羧酸和反应介质的浆液中分离出一定量的反应介质，以得到一个块状物的分离步骤，该块状物中，块状物附着液与固体含量的重量比不超过50％；和(C)将所制得的块状物移动到一个具有压力低于分离装置中的压力的化合物回收区中，由此通过压力的变化所释放的内能来蒸发块状物附着液的干燥步骤，其中，分离装置中块状物的温度与排出到化合物回收区中的块状物的温度之间的温差值为5℃-250℃。 | ||
| 申请公布号 | CN1264599C | 申请公布日期 | 2006.07.19 |
| 申请号 | CN01823372.4 | 申请日期 | 2001.05.15 |
| 申请人 | 三菱化学株式会社;巴工业株式会社 | 发明人 | 沼田元幹;福田胜则;矶贝隆行;岩崎敏哉;安藤胜也 |
| 分类号 | B01J3/00(2006.01);C07C51/265(2006.01);C07C51/43(2006.01);C07C63/26(2006.01) | 主分类号 | B01J3/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海市华诚律师事务所 | 代理人 | 徐申民 |
| 主权项 | 1.一种芳族羧酸的制造方法，它包括：(A)在反应器中、在高于大气压力但不高于20MPa的压力范围内、和在50℃-350℃的温度范围内进行反应，以生成芳族羧酸的反应步骤；(B)在分离装置中、在0.11MPa-22MPa的压力范围内、和在50℃-350℃的温度范围内从含有芳族羧酸和反应介质的浆液中分离出一定量的反应介质，以得到一个块状物的分离步骤，该块状物中，块状物附着液与固体含量的重量比不超过50％；和(C)将所制得的块状物移动到一个具有压力低于分离装置中的压力的化合物回收区中，由此通过压力的变化所释放的内能来蒸发块状物附着液的干燥步骤，其中，分离装置中块状物的温度与排出到化合物回收区中的块状物的温度之间的温差值为5℃-250℃。 | ||
| 地址 | 日本东京都千代田区 | ||