超分子插层结构紫外光吸收剂及其制备方法和用途

摘要

本发明提供了一种超分子插层结构紫外光吸收剂及其制备方法和该紫外光吸收剂的用途。本发明利用水滑石具有可插层组装的特点，在水滑石层间插入5－苯并三唑－4－羟基－3－异丁基－苯磺酸(5－benzotriazolyl－4－hydroxy－3－sec－butylbenzenesulfonic acid，简称BZO)的阴离子(酸根)，制备层间客体为BZO阴离子(C₁₆H₁₆N₃O₄S)^－的超分子插层结构材料。该超分子插层结构紫外光吸收剂的化学组成式为[M²⁺_1－xM³⁺_x(OH)₂](C₁₆H₁₆N₃O₄S)^－_x·mH₂O，对280－370nm波段紫外光的吸收率大于90％。该超分子插层结构紫外光吸收剂的热稳定性与插层客体BZO相比有显著的提高，其层间物种的明显分解温度在450℃左右。超分子插层结构紫外光吸收剂可用作如聚丙烯、聚碳酸酯、丙烯氰－丁二烯－苯乙烯共聚物(ABS)以及聚氨酯等易光氧降解树脂的耐光老化添加剂。

主权项

1.一种超分子插层结构紫外光吸收剂，其化学组成式为：[M2+1-xM3+x(OH)2](C16H16N3O4S)-x·mH2O 其中0.2≤x≤0.33，m为层间结晶水分子数，0≤m≤2；M2+、M3+分别代表层板二价、三价金属离子，M2+是Mg2+、Ni2+、Zn2+、Fe2+或Cu2+中的任何一种，M3+是Al3+、Co3+、Fe3+、Ti3+或Ga3+中的任何一种，M2+/M3+摩尔比为2-4∶1。