发明名称 晶粒大小可控的多晶Fe<SUB>3</SUB>O<SUB>4</SUB>薄膜材料及其制备方法
摘要 本发明属于一种晶粒大小可控的多晶Fe<SUB>3</SUB>O<SUB>4</SUB>薄膜材料及其制备方法,它是在基片上形成多晶Fe<SUB>3</SUB>O<SUB>4</SUB>薄膜,Fe<SUB>3</SUB>O<SUB>4</SUB>晶粒粒径为19~42纳米,薄膜的室温磁电阻数值11~12%。本发明是采用直流磁控溅射技术,先在氩气和氧气的混合气氛中溅射成膜,然后通过对退火温度和退火时间的连续控制而制备的,所用基片材料为玻璃、石英、单晶硅、单晶砷化镓等,溅射时基片不加热。本发明制备得到的多晶Fe<SUB>3</SUB>O<SUB>4</SUB>薄膜材料与目前所存的同类材料相比,其晶粒大小可以连续控制,并且具有较高的室温磁电阻数值,制备工艺简单,适用于多种基片等优点。
申请公布号 CN1805080A 申请公布日期 2006.07.19
申请号 CN200610013055.1 申请日期 2006.01.16
申请人 南开大学 发明人 刘晖;王健;王雅欣;孙云;张德贤;李养贤;李志青
分类号 H01F10/20(2006.01);H01F10/32(2006.01);H01F41/18(2006.01);H01L43/08(2006.01);H01L43/12(2006.01) 主分类号 H01F10/20(2006.01)
代理机构 天津市学苑有限责任专利代理事务所 代理人 赵尊生
主权项 1、一种晶粒大小可控的多晶Fe3O4薄膜材料,其特征在于它是先在基片上形成多晶Fe3O4薄膜,然后通过对退火温度和退火时间的连续控制而制备的,Fe3O4晶粒粒径为19~42纳米,厚度100~500nm,晶粒随机取向,没有织构,薄膜的室温磁电阻数值11~12%;所述的基片是玻璃、石英、聚酯、单晶硅或单晶砷化镓等。
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