| 发明名称 | 关于基板的信息的测量方法和用于光刻设备中的基板 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种测量由基板提供的信息的方法。该基板包括通过光刻设备产生的特征。该方法包括将光束投影到设置在基板上的特征上方和/或附近的标记器上，以及由传感器检测所述标记器提供的信息。将涂层设置在基板上，以使得该涂层位于光束和该特征之间，以基本防止光束被该特征反射以及防止导致由标记器提供的信息的不精确读出。 | ||
| 申请公布号 | CN1804726A | 申请公布日期 | 2006.07.19 |
| 申请号 | CN200510119148.8 | 申请日期 | 2005.12.27 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | S·拉巴哈杜尔辛;M·J·A·皮尔特斯;J·豪肖尔德;C·凡德文 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F7/00(2006.01);G03F9/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京 |
| 主权项 | 1.一种用于测量由基板提供的信息的方法，该基板包括由光刻设备产生的特征，该方法包括：将光束投影到设置在基板上的特征上方和/或附近的标记器上；以及由传感器检测所述标记器提供的信息；其中涂层设置在基板上，使得涂层位于光束和所述特征之间，以基本防止光束被特征反射以及防止导致由标记器提供的信息的不精确读出。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||