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发明名称
用于处理介电材料之设备及制程
摘要
一种用于处理介电材料之设备及制程,该介电材料例如低k介电材料、预加金属的材料、阻障层及类似物。此设备一般包含:一辐射源模组、一耦合到该辐射源模组的处理室、及一装卸室,该装卸室是与处理室及一晶圆搬运机呈操作性相通。每一模组的气氛均可以受到控制而适用于不同种类的介电材料。辐射源模组包括一反射器、一紫外线辐射源及一板,该板可允许大约150nm到大约300nm的波长穿透过去,如此界定出一密封内部区域,其中此密封内部区域是与一流体源呈流体相通。
申请公布号
TW200625388
申请公布日期
2006.07.16
申请号
TW094120423
申请日期
2005.06.20
申请人
艾克塞利斯科技公司
发明人
卡萝 华德费得;艾文 贝利;克里斯多夫J 加摩;奥兰多 伊斯寇希亚;帕兰尼库玛伦 沙克席威尔;JANOS, ALAN C.
分类号
H01L21/00
主分类号
H01L21/00
代理机构
代理人
林镒珠
主权项
地址
美国
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