发明名称 晶片结构及其凸块制程
摘要 一种凸块制程,其包括下列步骤。首先,提供一晶圆,而晶圆上已形成一保护层,且保护层系暴露出晶圆之多个接垫。然后,在这些接垫上形成一球底金属层。在保护层上形成一聚合物层,其中聚合物层系暴露出球底金属层。接着,在每一接垫之球底金属层上形成一凸块。基于上述,球底金属层具有较佳的品质。此外,本发明亦揭露一种晶片结构。
申请公布号 TW200625478 申请公布日期 2006.07.16
申请号 TW094100020 申请日期 2005.01.03
申请人 日月光半导体制造股份有限公司 发明人 戴丰成
分类号 H01L21/60 主分类号 H01L21/60
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 高雄市楠梓加工出口区经三路26号