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发明名称
晶片结构及其凸块制程
摘要
一种凸块制程,其包括下列步骤。首先,提供一晶圆,而晶圆上已形成一保护层,且保护层系暴露出晶圆之多个接垫。然后,在这些接垫上形成一球底金属层。在保护层上形成一聚合物层,其中聚合物层系暴露出球底金属层。接着,在每一接垫之球底金属层上形成一凸块。基于上述,球底金属层具有较佳的品质。此外,本发明亦揭露一种晶片结构。
申请公布号
TW200625478
申请公布日期
2006.07.16
申请号
TW094100020
申请日期
2005.01.03
申请人
日月光半导体制造股份有限公司
发明人
戴丰成
分类号
H01L21/60
主分类号
H01L21/60
代理机构
代理人
詹铭文;萧锡清
主权项
地址
高雄市楠梓加工出口区经三路26号
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